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特集:ビアフィルめっきにおけるCVS分析 第2回 【硫酸銅めっき液における添加剤の影響】

 添加剤の入っていない硫酸銅液(VMS:Vergin Make up Solution)に、添加剤(抑制剤、促進剤、レベラー)の入っためっき液を添加した場合、図3.のような挙動を示します。
 経軸はめっき量(電気量で現します)、緯軸は添加量です。
@添加剤の入っていないVMSは、最もCuの析出が多く、添加剤が入っためっき液を添加することで、徐々に析出が抑えられます。最初の挙動は、抑制剤に依存します。
A添加量が増え、液中の抑制剤の割合が一定量になると、添加量に対する抑制効果に大きな変化が見られなくなります。この時点から促進剤の影響が現れ、徐々にめっき量が増えてきます。
B液中の促進剤が一定に達すると、次にレベラーの効果が現れ、再びめっき量は減少します。
 CVS分析は、これら3つのエリアにおけるCuめっき量の挙動を利用した分析方法です。


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CVS分析装置

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めっきクリニック

テーマ:キラりと光る分析力    【 2011年10月24日 】