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特集:ビアフィルめっきにおけるCVS分析 第1回 【添加剤の種類と分析法】 

硫酸銅めっき液中の添加剤につきましては、おかげさまで、ルーチン分析としてご好評いただいております。
これから5回に分けて、ビアフィルめっきにおけるCVS分析についてご紹介いたします。

ビアフィルめっきにおいて、基板等の回路表面の平坦化、およびボイドをつくらずビア内を銅めっきで充填させるためには、ビアホール内部のめっき析出を優先的に行う必要があります。そのために硫酸銅めっき浴中の添加剤のバランス(濃度管理)が重要です。
一般的に硫酸銅の添加剤成分には、抑制剤、促進剤、レベリング剤があります。CVS(Cyclic Voltammetry Stripping)分析法では、これらの成分を以下の方法を用いることで、独立して分析することが出来ます。
 ●抑制剤:DT(Dilution Titration)法
 ●促進剤:MLAT(Modified Linear Approximation echnique)法
 ●レベリング剤:RC(Response Curve)法


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CVS分析装置

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Kiyokawaめっきクリニック

テーマ:キラりと光る分析力    【 2011年10月21日 】