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半導体用語解説シリーズ。シリーズ第7回目は『ま行』

●マイクロマシン(micro machine)
米国ではMEMS(Micro Electro Mechanical System)、欧州ではMST(Micro System Technology)とも呼ぶ。シリコンウェハプロセスで培われた微細加工技術を用いて作製された、可動部を含む微小機械システムの総称。代表的な応用例としてデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)がある。その他、光学分野の光MEMS、通信デバイス用RF(高周波)MEMS、医療・バイオMEMS、マイクロパワー源に関するパワーMEMSなどがある。現在では、マイクロレベルからナノレベルへ進展したNEMS(Nano Electro Mechanical System)も検討されている。

●マスクROM(mask read only memory)
ユーザの要求するメモリーデータに従って、ICメーカーで製造工程中にメモリーセルにデータが書き込まれているROM。書き込みの際にはフォトマスクを使う。書き換えはできない。

●マスフローメーター(Massflow Meter)
熱式流量計の一種。圧力損失が少なく、精度も高い。

●マスフローコントローラー(Massflow Controller)
半導体製造用ガスの供給を自動的に行う流量制御装置。センサー、コントロールバルブ及び電気回路で構成される。

●枚葉処理(single wafer processing)
ウェハに各種のプロセス処理を施す際、1枚1枚のウェハに対して行うタイプの処理、あるいは処理法。これに対し何枚かのウェハを同時に処理するタイプをバッチ処理と呼ぶ。

●前工程(wafer process)
ウェハの上に多数のICチップを作り込む工程。

●ミスト(mist)
液体が微細な滴となって飛び散り、空気中に浮遊しているもの。

●無塵衣(dust-free garment)
クリーンルーム内で着用する清浄な衣服。
無塵衣を着てマスク着けて手袋着けると、露出するのは目元だけ。

●メモリー(memory)
情報を記憶し、必要に応じて取り出し利用できる機能をもったICで、揮発性メモリーと不揮発性メモリーに分かれる。

●面方位(surface orientation)
シリコン単結晶ウェハなどで、表面部分が有する結晶方位。MOS ICでは(100)、(111)などが使用される。


次回は『や行』について解説します。


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半導体用語解説シリーズ

テーマ:心ときめく技術力    【 2010年11月01日 】