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半導体用語解説シリーズ シリーズ第2回目は『か行』

半導体用語解説シリーズ。シリーズ第2回目は予定を変更して『か行』。

●化学的機械的研磨(chemical mechanical polishing CMP)
半導体製造において使われるプロセスのこと。ウェハを平らにするため或いはウェハ表面から余分な物質を取り除くために行われる。

●化学気相成長(chemical vapor deposition CVD)
成膜しようとしている膜の種類に応じ必要な原料をガス状(気相)で供給し、これに各種エネルギー(熱、プラズマ、光など)を与えて化学反応を起こさせ、基板表面での触媒反応を利用しながら薄膜を堆積する方法。基板表面と供給する原料の化学種を選ぶことで、基板表面の特定の場所にだけ選択的に成長することが可能である。

→ 気相成長(vapor phase growth)

●拡散層(diffusion layer)
一定量(濃度)の不純物をウェハ表面に付着させ(これを導入と言う)、付着させた不純物を熱拡散により希望の深さまで分布させた(これを拡散と言う)層のこと。拡散層中での不純物原子の濃度は均一でなく、内部にいくに従って薄くなる。ICの中で拡散層は抵抗や配線などにも使われている。

●拡散抵抗(diffused resistor)
半導体デバイスにおいて、不純物を拡散させた層の抵抗のこと。拡散層抵抗ともいう。チップ内(2個またはそれ以上)での抵抗値間での相対精度が高い特長を生かし、IC内の差動増幅回路や圧力センサーなどに用いられている。

●化合物半導体(compound semiconductor)
二つ以上の元素からなる半導体をいう。ガリウム砒素(GaAs)、インジウムリン(InP)、窒化ガリウム(GaN)などがある。シリコン(Si)やゲルマニウム(Ge)など単一元素では実現できない半導体の特性を実現することが可能である。
清川メッキでは各種半導体の試作対応可能。

●気相成長(vapor phase growth)
様々な物質の薄膜を形成する蒸着法の一つ。目的とする薄膜成分を含むガスを供給し結晶基板表面に薄膜を成長させる技術。これには、化学気相成長(CVD)と物理気相成長(PVD)がある。

→ 化学気相成長(chemical vapor deposition CVD)

●鏡面ウェハ(mirror polish wafer)
表面を鏡面状に研磨(鏡面研磨)したウェハ。表面は原子レベルで平坦で、鏡として使えるくらいまでピカピカな状態になっている。

●鏡面研磨(mirror polish)
ウェーハなどを研磨してピカピカの鏡面状態にすること。

●組立(assembly)
1個1個のICチップを特別なパッケージに収納すること。「マウント」、「ボンディング」、「モールド封入」、「リード成形」などの工程を含む。

●クリーン化技術(clean technology)
ICの製造では、微小パーティクルや微量不純物により歩留まり・性能・信頼性が影響を受けるため、極力清浄なクリーンルーム環境、製造装置や部品、プロセスや材料、搬送や洗浄法などが求められる。これら、清浄化するための各種技術を総称してクリーン化技術と呼ぶ。

●クリーンドラフトチャンバー(clean draft chamber)
HEPAフィルタユニットと換気ダクトを有し、清浄な雰囲気で薬品処理が行えるよう仕切りをした場所。

●クリーンブース(clean booth)
天井又は一部にファンフィルタユニットなどの空気清浄装置を、かつ四周に汚染域と区画するためのカーテンなどを持つ自立形ブース。小空間を簡便にクリーンルーム化することができ、移動可能なものもある。垂直吹出し形の簡易なクリーンルーム。

●クリーンベンチ、清浄作業台(clean bench)
ULPAフィルタなどを通過した清浄空気が作業対象物に対して直接に流れるように作られた作業台。
規定された清浄度レベルに管理された空気が、作業対象物に対して直接に流れるように作ってある作業台。

●クリーンルーム(clean room)
微量のゴミ(パーティクル)や金属、各種イオン、有機物などの不純物を嫌うICの製造を行うための、非常に清浄化された工場のこと。清浄環境を保つと同時に温度・湿度を制御・モニターしている。清浄環境を実現するため、クリーンルームでは天井のフィルタから床に向かって絶えず空気を流し続けている(ダウンフロー)。人は大きな汚染源になるため、クリーンルームに入る際には全身を覆う防塵服を着用している。

●グレーチング(grating)
クリーンルームの床面に設置され、天井部からフィルタを通し流れてくる清浄な空気の下方の流れを逃がすため、網目状の構造を有する導電性材料からなる床面材。

●現像(development)
露光によりフォトレジストに転写された潜在パターンを、化学反応を利用して顕在化すること。


次回は『さ行』について解説します。


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半導体用語解説シリーズ

テーマ:心ときめく技術力    【 2010年01月22日 】