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国際粉体工業展 東京2016の出展ご案内

低抵抗粉体めっき技術
【低抵抗粉体めっき技術】
  • 粉体めっき技術 【粉体めっき技術】

来週から開催される国際粉体工業展 東京2016に当社の粉体めっき技術を出展します。

◆貴金属代替え低抵抗粉体めっき技術
 貴金属ペーストの代替えとした、低抵抗Ni粉末めっき技術のご紹介となります。
 【特徴】
 @金、銀に匹敵する低抵抗値
 A貴金属より低コスト
 BNiPめっきと比べて磁性を有する
 など低抵抗めっき技術を開発しました。

◆粉体へのめっき技術
 ニッケル粉、銅粉、樹脂粉、ダイヤモンド粉など様々な粉末への各種めっきを
ご紹介します。導電付与、耐食性向上、磁性付与など色々な新機能をめっきする
ことで付与することが可能です


●国際粉体工業展 東京2016
 場所 :東京ビッグサイト
 会期 :2016年11月30日(水)〜12月2日(金)
     10:00〜18:00(但し、最終日は10:00〜17:00)
 会場 :東2ホール (小間番号:J-11)
 展示会では、当社技術スタッフがご説明させて頂きますので、お気軽にお声掛けください。


キーワード:自動車、車載、エネルギー、環境、インフラ、システム、医療、メディカル、バイオ、航空機、ロボット、宇宙
 


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国際粉体工業展 東京2016

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お問い合わせ

テーマ:展示会    【 2016年11月26日 】